三維微結構顯微干涉檢測方法
高志山; 孫一峰; 于顥彪; 袁群 南京理工大學電子工程與光電技術學院; 南京210094
關鍵詞：三維形貌 微結構 干涉檢測 顯微鏡
摘要：三維微結構在光陷阱、隱身與光場調控、超高壓密封、人工生物材料等領域具有重要的應用價值。三維微結構的加工制造方法,包括激光直寫、光刻、電子與化學蝕刻等先進制造方法發展迅速,其檢測儀器有掃描電鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、激光共焦顯微鏡、低相干干涉顯微鏡,但這些檢測儀器一直受到西方發達國家壟斷。闡述國內在低相干干涉顯微測量方法方面的研究進展,包括干涉顯微鏡的光學設計方法、裝校流程、寬譜低相干干涉圖處理與微結構形貌復原方法,并給出了不確定度評定結果。結果表明:儀器三維形貌合成不確定度為0.9 nm,最大微結構軸向分辨率為0.13 nm。
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