金屬Cu箔和Al箔的制備及其電爆性能研究
呂棟騰; 韓克華 陜西國防工業職業技術學院; 陜西西安710300; 陜西應用物理化學研究所; 陜西西安710061
關鍵詞：沖擊片雷管 金屬薄膜 銅箔 鋁箔 磁控濺射
摘要：采用非平衡磁控濺射法制備得到不同厚度的銅膜和鋁膜,采用掃描電鏡(SEM)、臺階儀以及阻抗分析儀進行表征,并對其電爆性能進行測試。實驗結果表明,金屬薄膜在濺射過程中,濺射功率決定金屬薄膜的質量,既濺射功率越大,金屬薄膜的致密性越好,晶粒顆粒越小,晶粒分布也越均勻;橋箔厚度對爆發時間和爆發電流均有顯著影響,較薄的橋箔電爆性能優于較厚的橋箔;比較相同橋區尺寸、相同厚度的銅箔和鋁箔,鋁箔電爆性能更好。
注：因版權方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
