TiO2修飾層與ZnO復(fù)合薄膜中非晶化現(xiàn)象研究
劉濤 商洛學(xué)院電子信息與電氣工程學(xué)院; 陜西商洛726000
關(guān)鍵詞：修飾層 晶體結(jié)構(gòu)
摘要：為改善ZnO薄膜的光學(xué)性質(zhì),采用溶膠-凝膠法分別制備了3層和6層ZnO基底上覆不同層數(shù)TiO2修飾層的透明薄膜,分析TiO2修飾層對薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響。用不同工藝流程制備了覆TiO2修飾層的ZnO基透明薄膜,研究非晶化出現(xiàn)的過程。結(jié)果表明:所有混合鍍膜樣品,其結(jié)晶性均受到阻礙,所得樣品呈現(xiàn)出明顯的非晶狀態(tài);非晶化的出現(xiàn)會對薄膜的光學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生顯著影響。非晶化過程發(fā)生在樣品制備過程中的預(yù)處理和退火階段,其中退火過程中的非晶化更為主要。
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