國內(nèi)外集成電路光刻膠研究進(jìn)展
關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體分立器件 集成電路制造 光刻膠 光致抗蝕劑 光刻技術(shù)
摘要：光刻膠又名“光致抗蝕劑”,是一種在紫外光等光照或輻射下,其溶解度會發(fā)生變化的薄膜材料。光刻膠的配方較為復(fù)雜,通常由增感劑、溶劑、感光樹脂以及多種添加劑成分構(gòu)成[1],是集成電路制造的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一,是光刻技術(shù)中涉及到最關(guān)鍵的功能性化學(xué)材料[2],廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及半導(dǎo)體分立器件的微細(xì)加工等過程[3]。光刻膠分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型、含硅光刻膠等種類。光刻膠的主要參數(shù)有分辨率、對比度、靈敏度、粘滯性黏度、抗蝕性、表面張力和粘附性。
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