光柵精密位移測(cè)量技術(shù)發(fā)展綜述
關(guān)鍵詞：位移測(cè)量 光柵 高精度測(cè)量 衍射干涉
摘要：精密測(cè)量是精密機(jī)械加工的基礎(chǔ),是制造行業(yè)中影響制造精度的決定性因素之一,在當(dāng)代精密機(jī)械制造領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。基于光柵的精密位移測(cè)量系統(tǒng)以其對(duì)環(huán)境要求小,測(cè)量分辨率高等優(yōu)點(diǎn),在精密位移測(cè)量領(lǐng)域占據(jù)重要位置。基于光柵的精密位移測(cè)量系統(tǒng)包括光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)、信號(hào)接收、電子學(xué)細(xì)分及整體裝調(diào)幾部分。本文主要針對(duì)光學(xué)測(cè)量光路部分進(jìn)行綜述介紹。首先介紹了經(jīng)典光柵干涉位移測(cè)量原理;其次,綜述了基于光柵的精密位移測(cè)量系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)現(xiàn)狀;再次,對(duì)比分析了幾種最具有代表性的測(cè)量技術(shù),總結(jié)其優(yōu)缺點(diǎn);最后,對(duì)基于光柵的精密位移測(cè)量技術(shù)進(jìn)行展望,揭示其高精度、高分辨力、高魯棒性、微型化、多維化、多技術(shù)融合的發(fā)展趨勢(shì)。
中國(guó)光學(xué)雜志要求:
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