面向?qū)拵畔⑾到y(tǒng)的集成微波光子技術(shù)研究進展及趨勢
關鍵詞：微波光子 集成器件 單片集成 異質(zhì)集成
摘要：集成微波光子技術(shù)具有寬帶性、高速性、小巧性和抗干擾性等一系列優(yōu)勢,是未來寬帶信息系統(tǒng)發(fā)展的關鍵技術(shù)路徑之一。其中,硅基單片集成和硅基異質(zhì)集成是集成微波光子技術(shù)的兩個重要研究內(nèi)容。本文通過分析基于硅(Si)、鋸酸鋰(LiNbO3)和II+V化合物等材料體系的光子單片集成和異質(zhì)集成器件的研究現(xiàn)狀,探討了集成微波光子系統(tǒng)的發(fā)展趨勢。本文認為:面向?qū)拵畔⑾到y(tǒng),以硅材料為基底,多種材料體系進行異質(zhì)集成,能夠兼容COMS工藝的同時,還能充分發(fā)揮各種材料性能優(yōu)勢,因此將會成為未來集成微波光子學的重要發(fā)展趨勢。
真空電子技術(shù)雜志要求:
{1}作者簡介:姓名、性別、出生年份、籍貫、工作單位、職稱、學歷、研究方向，通訊地址、郵政編碼、聯(lián)系電話、電子信箱，相關信息務必準確。
{2}致謝置于正文后、參考文獻前。用于對參與部分工作、提供技術(shù)性幫助、提供工作方便、給予指導但尚達不到作者資格者，以及提供資助的團體或個人。文字力求簡練，評價得當，并應征得被致謝人同意。
{3}標題一般不超過15個字，可加副標題。
{4}參考文獻按引用的先后順序列于文末。所列參考文獻在20條左右，以國內(nèi)外近5年發(fā)表的雜志參考文獻為主。
{5}關鍵詞應為3-5個，最好體現(xiàn)出文章的主旨和特色，目的是方便讀者根據(jù)關鍵詞在眾多文獻中關注到您的研究。
注：因版權(quán)方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
